名稱： 半導體設備局部鍍鎳/鍍金

針對半導體設備特定部位局部鍍鎳/鍍金，刷鍍/噴鍍技術可大幅減少傳統槽鍍的遮蔽問題

以半導體產業製程中所用到的鋁合金腔體為例，各式腔體需於端面局部鍍鎳以達到其使用需求

更多介紹

Introduction

  • 半導體設備局部鍍鎳/鍍金
    鋁合金真空腔體局部鍍鎳 : 上外圍處局鍍鍍鎳
  • 半導體設備局部鍍鎳/鍍金
    鋁合金真空腔體局部鍍鎳 : 內側底部圓局鍍鍍鎳
  • 半導體設備局部鍍鎳/鍍金
    鋁合金真空腔體局部鍍鎳 : 大型腔體側部局鍍鍍鎳
  • 半導體設備局部鍍鎳/鍍金
    圓盤型局部鍍鎳
  • 半導體設備局部鍍鎳/鍍金
    鋁合金真空腔體局部鍍鎳 : 上內側圓局鍍鍍鎳
  • 半導體設備局部鍍鎳/鍍金
    鋁合金腔體局部鍍鎳
  • 半導體設備局部鍍鎳/鍍金
    左為原鋁合金腔體，右為局部鍍鎳成品